基本信息
| 标准名称： | 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则 |
| 英文名称： | Guidelines for photomask defect classification and size definition |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 电子工业生产设备 >> 加工专用设备 |
| ICS分类： | 电子学 >> 电子元件综合 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1997-06-20 |
| 实施日期： | 1998-03-01 |
| 首发日期： | 1997-06-20 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2004-08-10 |
| 页数： | 平装16开， 页数：7， 字数：10千字 |
| 书号： | 155066.1-14347 |
适用范围
本准则的范围是制定有关光掩模缺陷分类用的标准术语，并规定缺陷大小的表达方法。确定光掩模缺陷时应遵循这个准则。
前言
没有内容
目录
没有内容
引用标准
没有内容
所属分类： 电子元器件与信息技术 电子工业生产设备 加工专用设备 电子学 电子元件综合